硫化鎘 靶材（CdS）適用于工業級鍍膜，實驗或研究級別用鈰靶材，電子，光電，軍用，裝飾，功能薄膜等。
一、主要用途：
適用于磁控濺射制備薄膜
二、適用領域：
1、適用濺射設備品牌：
A.適用設備：單靶濺射系統，雙靶濺射系統，JC500型磁控濺射儀，DE300DL 磁控濺射系統
B.適用設備品牌：國產品牌：南光機器廠、北京儀器廠、金盛微納、沈陽科儀、JK-LASKER、微電子所等品牌
2、常規尺寸：
1.直徑：1英寸，2英寸，3英寸，4英寸，5英寸等不同直徑
2.厚度：1mm，2mm，3mm，4mm等尺寸可定做
三、產品詳情及價格：
| 貨號 | 產品名稱 | 規格 | 包裝 | 數量 | 單價 | 交期 |
| CdS-T3054 | 硫化鎘 靶材 | 99.9% φ76.2*4mm | 片 | 1 |
| 10-15個工作日 |
| CdS-T3054B2 | 硫化鎘 靶材 | 99.9% φ76.2*4mm綁定3mm銅背靶 | 片 | 1 |
| 10-15個工作日 |
注：其他比例成分、尺寸可定制
以上均為含稅含運費價格，13%增值稅發票，發票隨貨寄。
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