熱線電話

010-56073481

18201317600

設為首頁 | 收藏本站
展會會議

展會會議

副標題

PLD脈沖激光沉積專用靶材清單

2024-01-30 11:28來源:蒂姆(北京)新材料科技有限公司作者:蒂姆(北京)新材料科技有限公司網址:http://www.nlbabe.com
文章附圖

BaTiO3 靶材 3N φ25x6mm (3).jpg脈沖激光沉積(Pulsed Laser Deposition,簡稱PLD),是一種利用激光對靶材進行轟擊,將轟擊出來的等離子體沉積在襯底上,進行薄膜生長的技術。


原理

    在靶材表面,在足夠高的能量密度下和足夠短的脈沖時間內,靶材吸收激光能量并使光斑處的溫度迅速升高至靶材的蒸發溫度以上,使靶材蒸發為區域化的高溫高密度等離子體,在激光束的繼續作用下,等離子體的溫度和壓力迅速升高,進而轟擊基片表面沉積薄膜。


特點Al 靶材 5N φ25x5mm (1).jpg

1. 可對化學成分復雜的復合物材料進行全等同鍍膜,易于保證鍍膜后化學計量比的穩定。

與靶材成分容易一致是PLD的最大優點,是區別于其他技術的主要標志;


2. 沉積速率高,試驗周期短,襯底溫度要求低,制備的薄膜均勻;


3. 定向性強、薄膜分辨率高,能實現微區沉積;


LaTiO3 鈦酸鑭靶材3N φ30x5mm(2).jpg

4. 工藝參數任意調節,對靶材的種類沒有限制;


5. 生長過程中可原位引入工藝氣體,引入活性或惰性及混合氣體提高薄膜質量;


6. 易于生長多層膜和異質膜,特別是多元氧化物的異質結構;


7. 高真空環境內,羽輝只在局部區域蒸發沉積,對真空腔體污染小。


應用


    脈沖激光沉積技術的應用較為廣泛,除對該種激光透明的材料外,幾乎所有材料都可以使用PLD生長薄膜??捎脕碇苽浣饘?、半導體、氧化物、氮化物、碳化物、硼化物、硅化物、硫化物及氟化物等各種物質薄膜,甚至還用來制備一些難以合成的材料膜,如金剛石、立方氮化物膜等。SrTiO3 鈦酸鍶靶材 3N φ25x6mm (2).jpg
蒂姆(北京)新材料科技有限公司提供多種高純
PLD鍍膜材料,以下是產品清單,敬請參考:


地址:北京市豐臺區南四環西路128號院
聯系電話:010-56073481
郵箱:info@dmmaterial.cn
關于我們
 
 
 工作時間
周一至周五 :8:00-18:00
 聯系方式
電話:010-56073481
手機:18201317600
售前咨詢QQ:2031869415
濺射靶材咨詢QQ:2380702353
蒸發鍍膜咨詢QQ:1401752372
熔煉原料咨詢QQ:2516860964
中間合金咨詢QQ:3291343173
襯底基片咨詢QQ:2326365934